Фазовые маски изготовлены голографическим способом и обеспечивают точность периода +/-0.01 нм. Для потребителей компания-производитель обеспечивает широкий выбор возможных параметров фазовых масок, оптимизированных под различные длины волн записи волоконных решеток.item.thmb24

Фазовые маски для записи волоконных решеток, производства фирмы Ibsen Photonics (Дания) , оптимизируются для работы в +1/-1 порядках дифракции записывающего излучения. Интерференция этих порядков образует периодическую картину с периодом равным половине периода самой маски. Нерабочие порядки дифракции значительно ослаблены.

Области применения

Основное применение – изготовление волоконных решеток показателя преломления, которые широко используются в волоконно-оптической связи, волоконных лазерах и сенсорных системах для измерения физических величин волоконно-оптическими датчиками на основе волоконных брэгговских решеток.FBG Phase masks 1

Технические характеристики*

Параметр

Значение

Период маски, нм 400 ÷ 1800
Длина волны облучения, нм 193 ÷ 435
Материал УФ кварцевое стекло
Точность периода, нм ± 0.01
Однородность периода, нм ± 0.01
Чирп, нм/см 0.01 ÷ 30
Интенсивность нулевого порядка, % 1 ÷ 2
Размер маски/подложки, мм 10 х 10/30 х 25 х 2
25 х 10/30 х 25 х 2
50 х 10/3" х 3" х 2

* некоторые другие параметры приведены на сайте Ibsen Photonics

 Фазовые маски для записи фотоиндуцированных волоконных брэгговских решеток (PDF)

 

   
© НЦВО - Фотоника